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苏打光掩模基板(Blankmask,又称“匀胶铬版”、“光罩基板”)




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用途:是泛半导体微细图形和微纳加工从设计到图形实现的最佳加工载体,是分立器件、LED芯片、发光二极管光掩模及光学母版的最佳材料;

性能:刻蚀均匀、重复性好,最高能满足1um以上线宽制程;

规格:2"、2.5"、3"、4"、5"、6"、7"、8"、9"、14"


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