长沙韶光芯材科技有限公司

石英光掩模基板(Blankmask,又称“匀胶铬版”、“光罩基板”)




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用途:IC芯片、IGBT芯片设计图形到图形实现到衬底材料上的最佳载体,是半导体光刻制造过程中转移电路图形“底片”的高精密材料。

特性:

♦ 高感光灵敏度,高分辨率,低缺陷密度,耐磨性刻蚀均匀、重复性好;

♦ 石英基板平坦度≤1μm;Ra≤0.5nm;缺陷精度:最小检测感度100nm';

♦ 最高可满足130nm/110nm集成电路技术节点,公司目前正研发逐级可满足小于28nm技术节点的光掩模基板。

规格:5″(Q5009)、6″(Q6025)、7″(Q7012/7015/)、9″(Q9012);


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