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石英光掩模基板（Blankmask,又称“匀胶铬版”、“光罩基板”)
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半导体石英光掩模材料

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用途：IC芯片、IGBT芯片设计图形到图形实现到衬底材料上的主流载体，是半导体光刻制造过程中转移电路图形“底片”的高精密材料。

特性：

♦ 高感光灵敏度，高分辨率，低缺陷密度，耐磨性刻蚀均匀、重复性好；

规格：5″(Q5009)、6″(Q6025)、7″(Q7012/7015/)、9″(Q9012);

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