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湖南省第六批专精特新“小巨人”企业和第三批专精特新“小巨人”复核通过企业名单的公示！

湖南省第六批专精特新“小巨人”企业和第三批专精特新“小巨人”复核通过企业名单的公示！

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2024年第一批长沙市技术创新中心拟备案名单

2024年第一批长沙市技术创新中心拟备案名单

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公司荣获2023年第四批湖南省先进制造业高地建设专项资金

公司荣获2023年第四批湖南省先进制造业高地建设专项资金

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关于2023年度“湖南省省级工业新产品”（第一批）拟确认名单的公示

关于2023年度“湖南省省级工业新产品”（第一批）拟确认名单的公示

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付旭明：努力开创县区企业上市工作新局面！

付旭明：努力开创县区企业上市工作新局面！

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第四批湖南省制造业单项冠军产品名单公示 长沙企业58个产品上榜

第四批湖南省制造业单项冠军产品名单公示 长沙企业58个产品上榜

长沙晚报掌上长沙6月5日讯（全媒体记者 李广军）记者5日获悉，省工信厅日前组织了第四批湖南省制造业单项冠军产品评选工作，经企业申报、市州工信局推荐、省工信厅组织专家评审、综合认定和厅务会研究等程序，拟评选第四批湖南省制造业单项冠军产品名单目前正在公示，共198个产品上榜，其中58个产品为长沙制造。

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2023

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光掩模基板在电子领域的应用

光掩模基板在电子领域的应用

　　光掩模基板是半导体微电子制造中一种重要的模具制作材料。它是一种能够承受高分辨率光学投影的透明或半透明的材料。光掩模基板广泛应用于半导体芯片、平面显示器、光纤通信器件等制造过程中。　　　　光掩模基板的材料特性决定了它能否承受高分辨率的光学投影。典型的光掩模基板材料有玻璃、石英、聚合物等。比如说光刻胶，就是一种常用的光掩模基板材料。它具有高光学透明度、化学稳定性和机械强度，适用于高精度微型加工。制作通常包括影片图形制作、光刻胶覆膜、曝光和开发等步骤。光刻曝光光源是光刻胶制作的关键，利用光源照射光掩膜片上，在光掩膜上形成预选图形，通过掩模透光成像，并投影到光刻胶层上，制造出微小的半导体装置结构。具体步骤比较繁琐，需要严格控制不同环节的条件和参数。　　光掩模基板在半导体芯片的制造过程中至关重要。它主要应用于与光刻工艺相关的部分，包括芯片电路设计、光罩制作、光学设备制作、光刻胶制备等。在半导体芯

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2023

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光掩模基板在半导体生产中的重要性

光掩模基板在半导体生产中的重要性

　　掩模技术在半导体生产领域扮演着至关重要的角色。它可以用于制造芯片，将光或电子束照射光掩模中，并将它们透过芯片表面的半透明薄膜投影到硅晶圆上。光掩模基板是一种特殊类型的基板，它包含了用于生产芯片的精密光刻图案。　　　　光掩模基板被广泛应用于晶圆制造过程中，因为它们为芯片制造提供了高度准确的光刻图案。这种基板由高质量的石英材料制成，其表面平整度和平整度非常精确，可提供高度一致和精确的刻划结果。高质量的基板不仅可以提高制造效率和生产率，还可以确保芯片的质量和可靠性。　　在半导体生产中，为了保证良好的制造结果，需要使用高品质的光掩模基板。每个基板都需要经过严格的质量控制，以确保其符合制造过程的需求。这些基板还经过特殊处理，以确保其表面光滑无瑕，使其更容易进行光刻。此外，还对基板进行性能测试，以确保它们能够在制造过程中提供高质量的服务。　　光掩模基板是半导体生产过程中不可或缺的一部分。高品质的基

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