光掩模基版（匀胶铬版）系列_产品中心

　　匀胶铬版，又称“光掩模基板”“光罩基板”

　　匀胶铬版是电子信息技术的基础支撑材料，是当今微细图形和微纳米加工从设计到图形实现的优秀经典的加工载体；

　　匀胶铬版具有高的感光灵敏度，高分辨率，低缺陷密度，耐磨性好，易清洁，使用寿命长等特点，当前广泛应用于IC，LCD，TP,LED,精密光学，生物芯片等掩模版的制作；

　　依托自产的铬版材料，我们可以满足多外形尺寸，1微米以上线宽特需设计&特殊定制需求；我们可以加工不同材质的光掩模图形定制；如各种玻璃，陶瓷，蓝宝石，金属的微纳图形加工方案；

标定板

　　在机器视觉、图像测量、摄影测量、三维重建等应用中校正镜头畸变起到重要作用；

　　韶光铬版可制作超高精度（最高可达±0.1um），超高对比度，各种材质（玻璃，陶瓷，蓝宝石等材质）的标定板；

　　玻璃码盘是在玻璃镀铬面上腐蚀出明暗码道，热稳定性好，精度高；

　　韶光铬版采用IC级的工艺以及全流程的生产线，能够非常好的满足客户高精度，定制化的需求；

　　韶光铬版一直利用微纳薄膜技术的积累进行创新。近两年我们创新开发出手机3D盖板光学衍射微结构模具用基板材料和技术，为我们国家的手机产业创新贡献了微薄之力；这是创新推动发展的典型案例；

　　韶光铬版能根据客户需求效果进行光衍射元件的设计及生产；

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