长沙韶光铬版有限公司坐落于历史文化名城、科技创新之城长沙，成立于2003年。韶光铬版产业前身是1980年由国务院从德国全套引进设备及工艺技术、为集成电路芯片制造配套的重大科技项目；韶光铬版在2011年通过体制改革转制为全民营经济体制后，进一步爆发活力，是我国专为中国集成电路芯片制造配套的光掩模材料(亦称光掩模基板，铬版)制造企业，实现了我国光掩模材料在技术上质的飞跃。

　　经过40多年的消化吸收与传承，筚路蓝缕、开拓创新，造就了韶光铬版敢于在逆境下不断顽强进取与不断学习创新的开放革新的技术和管理团队。

　　韶光铬版通过引进吸收、自主创新打破了整个微纳薄膜的制作过程缺陷控制这一产品的技术壁垒，拥有独立的知识产权;作为国家认证的高新技术企业，韶光铬版拥有发明专利，实用新型专利近50项，并成为国内光掩模基板标准的主要制定者，是国家级的“专精特新”小巨人企业。2021年我们获得湖南省人民政府举行第一届“新湖南贡献奖”;

　　韶光铬版的光掩模材料已确立了国内光掩模市场优质的品牌及口碑，得到了行业内的专业化认可；我们始终秉承开放创新的理念与国际市场接轨。

　　韶光铬版在自主创新积累的的研发基础之上，厚积薄发，聚焦难点，延拓发展;我们的光掩模材料事业部一直以“打造国际先进微纳薄膜企业，填补国内半导体产业光掩模材料空白”为己任，克服重重困难，追赶国际先进技术节点，不断升级前进;我们的精密光学事业部依托光掩模中的光学原理和基础，匹配工业4.0转型，已经走上为客户提供一站式，定制化专业解决超精密光学光学元件材料方案的再出发路途; 芯片光掩模材料，超精密光学元件，韶光铬版自主进取心。

　　韶光铬版一直秉承着改变我国芯片关键材料和超精密光学元件落后状况、提升我国高端芯片材料产业和超精密光学元件制造产业技术水平的神圣使命，不断拼搏创新，超越自我；

　　以先进的技术、规范的管理，一致的品质，为客户和中国芯片材料和精密光学元件开创更加美好的未来。